中芯國際將45納米工藝技術延伸至40納米以及55納米
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中芯國際今天宣布其45納米的互補型金屬氧化物半導體 (CMOS) 技術將延伸至40納米以及55納米。
本文引用地址：//tjguifa.cn/article/98928.htm這些新工藝技術進一步豐富了中芯國際現有的技術能力，更好地滿足全球客戶的需求，包括快速增長的中國市場在內。其應用產品包括多媒體產品、圖形芯片、芯片組以及手機設備(如3G/4G 手機)。
“中芯國際上海的12英寸廠已提前達標完成了45納米的技術工藝。我們也同樣期盼著這些附加的延伸技術能取得佳績。”張汝京博士 -- 中芯國際總裁兼首席執行長表示，“這些新技術為我們現有的客戶和新客戶提供了一系列的定制解決方案，以滿足他們對不同產品的設計需求。”
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