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Gartner發布2008年設備商排名 ASML取代TEL排名第二

作者: 時間:2009-04-15 來源:semi

  Gartner近日發布2008年設備商排名,Applied Materials仍位居榜首。

本文引用地址://tjguifa.cn/article/93452.htm

  去年,盡管Applied Materials的銷售收入減少39.8%,但市場份額占13.2%。

  取代了TEL位居第二。的先進技術使其193nm沉浸式光刻設備獲得良好的需求。Teradyne入圍前十,同時也摘得測試市場中的桂冠。

  總體來看,2008年全球設備支出總額為307億美元,同比減少31.7%。從分類市場來看,晶圓廠設備收入減少32.8%,后端設備減少27.2%,均受到了資本支出減少的影響。

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