陶氏電子材料 (Dow Electronic Materials)今天推出了 OPTIVISIONTM 4540 化學機械研磨墊，該產品的設計目標是在研磨墊的使用壽命內實現低缺陷率和低擁有成本。這款新研磨墊使用了獨特的聚合物化學組成和細孔結構，以達到使銅阻擋層研磨的缺陷率降至最低，并提供更高的介電層去除率。OPTIVISION™ 4540 研磨墊擁有雙孔結構以精確控制研磨，并且在研磨墊使用壽命中提供一致的研磨墊表面。

　　OPTIVISION™ 4540 研磨墊可用于使用傳統軟墊的多種應用。尤其在銅阻擋層研磨方面，與 POLITEXTM 研磨墊產品相比，它在顫動和微劃痕缺陷率方面取得了一個數量級的進步，從而實現了更高的生產良率。與 POLITEXTM 研磨墊相比，OPTIVISION™ 4540 研磨墊的四乙氧基硅烷 (TEOS) 去除率提高了40%，從而實現了更高的產量和更低的擁有成本。

　　陶氏電子材料研磨墊行銷經理 Dave Ventura 表示：“我們的新研磨墊目的是直接因應市場對更高產量和更低缺陷研磨墊的需求。客戶測試表明，OPTIVISION™ 4540 研磨墊的穩定性超過了1000個晶圓片。這些初步結果明顯表現，這款研磨墊能夠在較長的使用壽命中以極低的擁有成本實現一致的高效表現。”

　　這款研磨墊可與陶氏的 ACuPLANETM 5100 系列研磨液一起使用，以實現更高性能。OPTIVISION™ 4540 研磨墊擁有多種尺寸和配置，包括最新的視窗選項，可用于目前的和先進的技術節點和平臺。陶氏目前已進行 OPTIVISION™ 4540 研磨墊的試樣提供，該產品將于今年第四季上市。