發展TFT-LCD掩模版產品，不僅能帶動多項相關產業的發展，形成較為完整的產業鏈，而且可打破國外壟斷局面，提高國產化配套能力，全面提升整機產品的品質和性能，大幅度降低整機制造成本，對推進我國液晶顯示產業技術發展及終端應用產品的技術進步具有積極意義。

　　中國企業已掌握核心技術

　　TFT-LCD用掩模版也稱光罩或MASK，是TFT-LCD制造過程中的圖形轉移工具或母版，它用于下游面板行業批量復制生產，主要應用于TFT-LCD黃光段陣列及彩色濾光片的曝光工藝。

　　清溢光電通過自主技術創新和體制創新，現已掌握第7代及第7代以下TFT-LCD用掩模版的10大核心技術，現正在規劃購進和自研相關設備，建設第8代及以下掩模版生產線，為國內TFT-LCD產業的發展同步配套。

　　清溢光電掌握的10大核心技術包括：TFT-LCD掩模版設計和應用技術，第7代及以下TFT-LCD掩模版的光刻技術，CD誤差可達到小于100nm的第7代及以下掩模版的顯影/蝕刻技術，第7代及以下大面積重復性測量誤差可達到小于10nm的測量系統設計能力，大面積二維尺寸測量小于90nm的測量應用技術，第7代及以下大面積LCVD修補系統設計和工藝控制技術;第7代及以下大面積保護膜貼膜系統設計和控制技術，第7代及以下大面積缺陷檢查以及分析應用技術;符合ISO14644技術要求的1級凈化建設、管理及保養技術，滿足VC-D級的防微振系統控制技術。

　　清溢光電已經具備的第5代量產和第7代研發的成功經驗，使清溢光電在2008年底占據國內大部分市場，為第8代TFT-LCD掩模版生產線奠定了技術基礎。

　　高世代掩模版技術難度加大

　　第8代及第8代以下TFT-LCD用掩模版產品都是由石英玻璃基板、鉻膜圖形及保護膜(pellicle)構成。石英基板的尺寸從330mm×450mm到1220mm×1400mm，厚度從5mm到13mm，鉻膜厚度為0.1μm，圖形關鍵尺寸在4μm左右，各項技術指標精度要求均為亞微米級，保護膜框高度為5.9mm左右，保護膜厚度為4μm。

　　清溢光電自2006年10月研制成功TFT-LCD彩色濾光片用大尺寸掩模版之后，2007年8月又成功開發出第5代TFT-LCD陣列用掩模版產品并實現量產，掩模版規格為800mm×520mm×8mm，柵格尺寸為25nm。與第5代產品相比，第8代TFT-LCD用掩模版面積尺寸更大，無論從產品技術還是生產工藝來看，第8代TFT-LCD用掩模版都處于國內本行業的最高技術水平。