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中微刻蝕設備獲半導體設備類創新產品和技術大獎

作者： 時間：2009-02-27 來源：中電網
        據中電網報道，中微公司刻蝕設備獲得中國半導體設備類創新產品和技術大獎

        中微半導體在剛剛召開的2009年 IC 市場年會上喜獲設備類創新產品和技術大獎。此次“中國半導體創新產品和技術”評選活動是由頗具聲望的中國半導體行業協會、中國電子材料行業協會、中國電子專用設備工業協會、中國電子報共同舉辦并經評選委員會按照評審條件和程序進行嚴格的綜合評價。連續3次的全國評選活動表明了，中國對通過自主研發和積極創新，擁有自主知識產權和領先技術以及積極開發國際市場和靈活的商業模式而帶動整個行業的進步表示的贊許和肯定。以研發和運營中心位于上海，中微作為高端的設備制造商而榮獲殊榮。　　 　　

        另外，在不久前，中微公司也被英國行業內最有影響力的歐亞半導體雜志推舉為集成電路行業2008年年度新公司獎。這個評選是對那些對半導體行業的進步起推動作用的業內的精英人物，制造工藝，以及產品的認可。中微公司由于其團隊的技術優勢及其研發和生產高附加值的關鍵設備而贏得業內廣泛的認可。　　 　　

        中微公司是先進的以亞洲為基地的半導體設備公司。公司致力于通過技術創新提高產能從而降低制造成本，為全球先進的芯片生產廠家提供一系列高端的芯片生產設備。中微公司戰略性地將總部設在全球半導體芯片制造
 工業最集中的地區，提供獨樹一幟的擁有技術創新和成本解決方案的等離子刻蝕和化學薄膜沉積設備，為65和45納米以及更高端的器件制造提供技術幫助和成本控制方案。

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