本刊訊  10月25日，英特爾斥資30億美元建造的一座12英寸芯片廠周四正式投產，坐落于美國亞利桑那州錢德勒市的這家制造廠，是英特爾首座采用45納米工藝的大規模芯片制造廠。

　　這座代號為“Fab 32”的工廠，占地約100萬平方英尺，相當于17個足球場大小，員工人數超過1千人，采用最為先進的45納米生產工藝。

　　新廠主要生產代號為“Penryn”的芯片，主要用于支持網絡運行的PC及服務器，產品預計于11月12日上市銷售。

　　新廠的投產將使英特爾進一步保持與AMD的競爭優勢。目前英特爾大多數芯片都使用65納米制造工藝，45納米意味著硅片的同一區域可以安放更多的晶體管，從而實現提高芯片廠生產率，提高芯片運算速度并降低能耗的目的。目前，AMD仍在采用65納米工藝，預計到明年才能轉向45納米。

　　據悉，英特爾計劃最新投資80億美元用于升級或建造45納米芯片廠，其中包括斥資35億美元在以色列建廠，另投資15億美元升級位于美國新墨西哥州的一家工廠，預計兩家工廠均于明年投產。