應用材料公司推出先進的化學機械研磨拋光墊技術
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時間:2006-12-18
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近日,應用材料公司宣布為200mm CMP(化學機械研磨)系統推出創新的Applied DuraPad CMP(化學機械研磨)拋光墊技術 。DuraPad的使用壽命比現有的研磨墊至少延長了30%,有效地增加了機臺的有效使用時間,替客戶節約了可觀的擁有成本。在DuraPad制造過程中采用先進的six-sigma 制造技術保證了研磨墊不同批次之間性能的一致性,從而確保獲得良好的CMP研磨效果。
應用材料公司全球服務部總經理兼資深副總裁Manfred Kerschbaum表示:“作為工藝消耗品的研磨墊對于應用材料公司來說是一個新的市場,也是我們同Praxair Electronics公司合作的重要成果。CMP系統最主要的消耗品就是研磨墊。我們感到非常興奮可以把新的研磨墊技術帶給我們的客戶,幫助客戶顯著提高研磨墊的使用壽命、改善機臺研磨效果并且降低設備擁有成本。此外,DuraPad與現有的研磨墊在使用上很相似,只需為特定的工藝條件做很小的調整和修改。”
DuraPad的性能之所以能達到高度的一致性,關鍵在于制造過程中基片的交叉結合和處理工藝。單個研磨墊從基片上以接近凈尺寸的大小裁剪出來,然后進行后續處理,保證了良好的墊上均一度和研磨墊之間的一致性。DuraPad還整合了Praxair公司擁有專利的氮氣起泡法,該方法優化了研磨墊內的氣孔結構,降低了缺陷率并減少了研磨液的使用量。
DuraPad拋光墊是應用材料公司在CMP領域內豐富經驗的結晶。應用材料CMP系統的全球裝機量已經超過了2000臺。DuraPad研磨墊已經在我們主要客戶的CMP應用中得到驗證。
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