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索尼將發表背面照射型CMOS傳感器

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作者: 時間:2005-12-05 來源:
 在即將召開的“2006年IEEE國際固體電路會議(ISSCC 2006)”上,將會有結構獨特的CMOS傳感器進行發表。比如,的傳感器采用了和普通方法相反、向沒有布線層的一面照射光線的背面照射技術(演講序號:16.8)。可將開口率(光電轉換部分在一個像素中所占的面積比例)提高至近100%。 

  試制的CMOS傳感器像素間隔為3.45μm,在采用背面照射技術的產品中較小。與不使用背面照射技術時相比,對于550nm的光線,感光度提高了34%。設計工藝為0.25μm,包括1層多晶硅和3層布線層。另一個特點是配置布線的位置自由度較大。 

  而日本東北大學和日本德州儀器組成的研究小組使CMOS傳感器的動態范圍(1幀內可拍攝對象的照度范圍)逼近極限(演講序號:16.7)。具體約為10-2lx~108lx,按對數換算約為200dB。 

  CMOS傳感器上沒有設計調節光量的光圈。為了積蓄在強光射入時所產生的電荷,在光電轉換部分的旁邊設計了電容器。假如是普通結構,這些電荷就會溢出。樣品的像素間隔為20μm。總像素數為4096。設計工藝為0.35μm,多晶硅2層,布線層3層。

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